Influence of the hydrogen contained in amorphous silicon thin films on a pulsed radiofrequency argon glow discharge coupled to time of flight mass spectrometry. Comparison with the addition of hydrogen as discharge gas
Fecha de publicación:
2012
Versión del editor:
Citación:
Journal of Analytical Atomic Spectrometry, 27(1), p. 71-79 (2012); doi:10.1039/c1ja10235d
Descripción física:
p. 71-79
ISSN:
Identificador local:
20120019
DOI:
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- Artículos [35470]