Endogenous and exogenous hydrogen influence on amorphous silicon thin films analysis by pulsed radiofrequency glow discharge optical emission spectrometry
Fecha de publicación:
2011
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Citación:
Analytica Chimica Acta, 714, p. 1-7 (2011); doi:10.1016/j.aca.2011.11.052
ISSN:
Identificador local:
20111952
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