RUO Principal

Repositorio Institucional de la Universidad de Oviedo

Ver ítem 
  •   RUO Principal
  • Producción Bibliográfica de UniOvi: RECOPILA
  • Artículos
  • Ver ítem
  •   RUO Principal
  • Producción Bibliográfica de UniOvi: RECOPILA
  • Artículos
  • Ver ítem
    • español
    • English
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Listar

Todo RUOComunidades y ColeccionesPor fecha de publicaciónAutoresTítulosMateriasxmlui.ArtifactBrowser.Navigation.browse_issnPerfil de autorEsta colecciónPor fecha de publicaciónAutoresTítulosMateriasxmlui.ArtifactBrowser.Navigation.browse_issn

Mi cuenta

AccederRegistro

Estadísticas

Ver Estadísticas de uso

AÑADIDO RECIENTEMENTE

Novedades
Repositorio
Cómo publicar
Recursos
FAQs

Tailoring block copolymer nanoporous thin films with acetic acid as a small guest molecule

Autor(es) y otros:
Alonso Fernández, AlbertoAutoridad Uniovi; Valdés Vango, F.; Martín Carbajo, José IgnacioAutoridad Uniovi; Vélez Fraga, MaríaAutoridad Uniovi; Quirós Fernández, CarlosAutoridad Uniovi; Hermida Merino, D.; Portale, G.; Alameda Maestro, José MaríaAutoridad Uniovi; García Alonso, Francisco JavierAutoridad Uniovi
Fecha de publicación:
2019
Versión del editor:
http://dx.doi.org/10.1002/pi.5901
Citación:
Polymer International, 68(11), p. 1914-1920 (2019); doi:10.1002/pi.5901
Descripción física:
p. 1914-1920
URI:
http://hdl.handle.net/10651/53636
ISSN:
0959-8103
DOI:
10.1002/pi.5901
Patrocinado por:

This work was supported by Spanish MINECO (grants FIS2013‐45469 and FIS2016‐76058 (AEI/FEDER, EU)). AAF thanks Dr Stefan Guldin for his help during the preparation of the manuscript and for useful discussions.

Colecciones
  • Artículos [37532]
Ficheros en el ítem
Métricas
Compartir
Exportar a Mendeley
Estadísticas de uso
Estadísticas de uso
Metadatos
Mostrar el registro completo del ítem
Página principal Uniovi

Biblioteca

Contacto

Facebook Universidad de OviedoTwitter Universidad de Oviedo
El contenido del Repositorio, a menos que se indique lo contrario, está protegido con una licencia Creative Commons: Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional
Creative Commons Image