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Early stage of ripple formation on Ge(001) surfaces under near-normal ion beam sputtering

dc.contributor.authorCarbone, Gerardina
dc.contributor.authorAlija Bayón, Alejandro 
dc.contributor.authorPlantevin, Olivier
dc.contributor.authorGago Fernández, Raúl
dc.contributor.authorFacsko, Stefan
dc.contributor.authorMetzger, Till-Hartmut
dc.date.accessioned2013-01-30T10:23:59Z
dc.date.available2013-01-30T10:23:59Z
dc.date.issued2008
dc.identifier.citationNanotechnology, 19(3), (2008); doi:10.1088/0957-4484/19/03/035304spa
dc.identifier.issn0304-3940
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10651/11348
dc.language.isoeng
dc.relation.ispartofNanotechnologyspa
dc.rights(c) Nanotechnology
dc.sourceWOKspa
dc.titleEarly stage of ripple formation on Ge(001) surfaces under near-normal ion beam sputteringspa
dc.typejournal article
dc.identifier.local1133spa
dc.identifier.doi10.1088/0957-4484/19/03/035304
dc.relation.publisherversionhttp://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/19/03/035304spa


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